因各微电子生产企业对电子级氢氟酸要求的标准不同，可将其划分为四种子类目：

　　1 低档产品，用于>1.2μmIC工艺技术的制作

　　2 中低档产品，适用于0.8～1.2μmIC工艺技术的制作

　　3 中高档产品，适用于0.2～0.6μmIC工艺技术的制作

　　4 高档产品(UPss)，适用于0.09～0.2μm和<0.09μmIC工艺技术的制作。

　　对于高纯度氢氟酸的制造主要包括三大步骤：第一项是对原始材料进行初步处理，分为物理处理和化学处理，

　　第二项开始对纯度不太高的酸进行蒸馏提纯。

　　第三项通过膜的物理过滤原理去掉分子结构较小的杂质。操作中相应设备的运行和操作需要紧密结合才能减少由于操作失误或者不够精确对于氢氟酸的提取产生影响。通常采取直线式的设置方式，以垂直流向为主。无水氟化氢或氢氟酸在上层，氢氟酸提纯在中层，过滤、包装及贮存在底层。

　　通过这样的提纯方式可以节约成本，提高效率，提高纯度

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